산화공정1 웨이퍼 표면을 보호하는 산화공정 산화공정(Oxidation)에 대해서 알아보자 웨이퍼의 보호막과 절연막 역할을 하는 '산화막(SiO2)' 모래에서 추출한 실리콘을 반도체 집적회로의 원재료로 탄생시키기 위해서는 일련의 정제 과정을 통해 잉곳(Ingot)이라고 불리는 실리콘 기둥을 만든다. 이 실리콘 기둥을 균일한 두께로 절단한 후 연마의 과정을 거쳐 반도체의 기반이 되는 웨이퍼를 만든다. 이렇게 만들어진 얇고 둥근 판 모양의 웨이퍼는 전기가 통하지 않는 부도체 상태이다. 그래서 도체와 부도체의 성격을 모두 가진 '반도체'의 성질을 가질 수 있도록 만드는 작업이 필요한데 이를 위해 웨이퍼 위에 여러 가지 물질을 형성시킨 후 설계된 회로 모양대로 깎고, 다시 물질을 입혀 깎아내는 일을 반복한다. 이 모든 공정의 가장 기초적인 단계가 산화공정.. 2023. 6. 14. 이전 1 다음
